เมื่อวันที่ 20 ธันวาคมที่ผ่านมา องค์การสิทธิทรัพย์สินทางปัญญาโลกประกาศรายงานที่กรุงเจนีวาโดยระบุว่า ปี 2010 ที่ผ่านมา จีนกลายเป็นประเทศขอจดทะเบียนลิขสิทธิ์อันดับสองของโลก แซงหน้าญี่ปุ่น
รายงานปรากฎว่า เมื่อปี 2010 ที่ผ่านมา มีผู้มายื่นขอจดทะเบียนลิขสิทธิ์กับหน่วยงานมากถึง 391,200 ชิ้น เติบโต 24.3% เป็นอันดับที่สองของโลก อันดับแรกคือสหรัฐอเมริกาเช่นเดิม จำนวนการยื่นขอลิขสิทธิ์ของจีนมีแนวโน้มการเติบโตรวดเร็วตลอด 10 ปี เฉลี่ยแล้วสูงถึงปีละ 22.6% ระหว่างช่วงปี 2001-2010
นายฟรานซิส กูร์รี เลขาธิการองค์การสิทธิทรัพย์สินทางปัญญาโลกกล่าวว่า การเติบโตอย่างรวดเร็วของจีน มีต้นเหตุจากการลงทุนมหาศาลในด้านการศึกษาวิจัยและเพิ่มขีดความสามารถในการประดิษฐ์คิดค้นให้สูงขึ้น
(In/Ping)
